什么是EMI A405igF
+ |. `9 m( y7 l0 |e}{#VB<
& b0 ^/ s4 Z/ M' ]( C+ V 电磁兼容性(Electromagnetic Compatibility)缩写EMC,就是指某电子设备既不干扰其它设备,同时也不受其它设备的影响。电磁兼容性和我们所熟悉的安全性一样,是产品质量最重要的指标之一。安全性涉及人身和财产,而电磁兼容性则涉及人身和环境保护。 aKW-(5<JW
+ \! f4 X( R9 w' v1 v' V% n" A* Bc ZYvP # o8 C1 |8 J2 d8 P3 Y- w
电磁波会与电子元件作用,产生干扰现象,称为EMI(Electromagnetic Interference)。例如,TV荧光屏上常见的“雪花”便表示接受到的讯号被干扰。 1l)j(,Zd*
4 T, A9 H+ ]3 ^+ ?) g9 Z0 tu!~kmIa4
+ y% C/ G% M& ^5 R! `. `& [" S6 {EMI溅射镀膜的原理 j< h1s%
+ ?6 m/ a* m8 b" @4 A" S' bo` QH8
5 M7 E7 {* c; D- D- Y7 ~7 l原理说明: *"_W1}^
5 u9 Y# N7 [" A$ Y! W! o! _0 T% A1. 在高度真空状态下,充入适量氩气; _\\IA[-C+O
4 [" C. O! s9 u/ E2. 施以高压直流电,将氩气电离成氩离子,加速撞击金属靶材,溅射出金属离子; E83$(6z
6 T- Z) b% R) w% R# k3. 金属离子在电场中加速溅射在基材(塑壳)上,形成金属离子薄膜。 ~eP~c"L 2 k/ {0 m. B* W* R# j) `1 k& C
&?p( UY7'" 4 x& B& p& h2 ]2 _# ?
X7K{P_5l % V9 k4 r2 ~; M6 Y# h/ d3 V
真空溅镀EMI的应用范围 Ux^ue9
9 L: |; t/ Z u2 f- @ 真空溅镀EMI具有高导电性和高电磁屏蔽效率等特点,广泛应用于通讯制品(移动电话)、电脑(笔记本)、便携式电子产品、消费电子、网络硬件(服务器等)、医疗仪器、家用电子产品和航空航天及国防等电子设备的EMI屏蔽。 n?6^j8i # c: ` d9 p4 Q/ ^3 @. O
hJ%$Te : t% H3 O b5 M, v2 q0 x
适用于各种塑胶制品的金属屏蔽(PC、PC+ABS、ABS等)。 DsxNg
7 H# U* P+ ]+ h$ O`%Kj+^|DS
; ^6 r# H6 @: U; t {1 c% J1 n; iEMI溅射镀膜的特点 Z;+;_Cw 9 i7 c0 O# v" e1 N% b7 I. b4 S0 ^
4Hyp]07
) f6 f$ h% \0 y7 X9 ^+ T/ m, v( P 真空技术是结合机械、电机、材料、化工和航太等技术发展出来的产业,亦是目前我国与美、日等国极力推动之十大新兴产业之一。真空技术应用范围日趋广泛,运用对象包括光电、半导体和LCD产业等,近年来尤其在光电、IC和LCD等产业之制造设备,更是成长迅速。 r&v!2A]: 9 o- r7 u! L+ P; _6 L
Y@UW\\d*'%I
8 W" H1 t) t9 P. _EMI溅射镀膜具有以下特点: 46l*ui_
+ V1 ]. e* U! A0 O$ G( W4 Luj%]+Llxv
) i$ E. c: p/ C) R) f; K! W价格低(国内拥有自主知识产权的话)。 %>zG;4
. E) Y( ?- k6 X2 X真空溅射加工的金属薄膜厚度只有0.5~2μm,绝对不影响装配。 nip*Y@-F 9 V( `% D2 `$ @& h( ?) y* t& j
真空溅射是彻底的环保制程,绝对环保无污染。 _E0yzkS
1 |0 X2 O" c+ }" ]; p& h& T4 m- O欲溅射材料无限制, 任何常温固态导电金属及有机材料、绝缘材料皆可使用(例:铜、铬、银、金、不锈钢、铝、氧化矽SiO2等)。 =*-a c
$ i! p7 t/ q0 O) B9 h) U, Z被溅射基材几无限制(ABS、PC、PP、PS、玻璃、陶瓷、epoxy resin等)。 6 AY~>p - _; \; S' q/ y
膜质致密均匀、膜厚容易控制。 [<^'}-SJ
* W& K3 ]: A& }2 H附著力强(ASTM3599方法测试4B)。 e&(Wn2)o + ?. b$ {; {/ D4 p
Mz) r' & l! f& I5 U; l" \
可同时搭配多种不同溅射材料之多层膜。并且,可随客户指定变换镀层次序. ~S :8M<aB |