什么是EMI A405igF 5 ]! S6 Q' `: H+ [# t
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0 z' j" a2 c3 v6 \7 P( b 电磁兼容性(Electromagnetic Compatibility)缩写EMC,就是指某电子设备既不干扰其它设备,同时也不受其它设备的影响。电磁兼容性和我们所熟悉的安全性一样,是产品质量最重要的指标之一。安全性涉及人身和财产,而电磁兼容性则涉及人身和环境保护。 aKW-(5<JW 1 H% q9 A: c) @3 t
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电磁波会与电子元件作用,产生干扰现象,称为EMI(Electromagnetic Interference)。例如,TV荧光屏上常见的“雪花”便表示接受到的讯号被干扰。 1l)j(,Zd*
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+ [+ ]) K# J9 `% j! hEMI溅射镀膜的原理 j< h1s%
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7 r: ~( X& R7 l% I6 U原理说明: *"_W1}^
+ u, f! ?* J7 n0 n, P: m1. 在高度真空状态下,充入适量氩气; _\\IA[-C+O
% q' x( a. K" _3 k2. 施以高压直流电,将氩气电离成氩离子,加速撞击金属靶材,溅射出金属离子; E83$(6z
: U8 B$ k6 B) q- T3 _; d3. 金属离子在电场中加速溅射在基材(塑壳)上,形成金属离子薄膜。 ~eP~c"L
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真空溅镀EMI的应用范围 Ux^ue9
; \+ K a) J4 _) }% S" ^, H 真空溅镀EMI具有高导电性和高电磁屏蔽效率等特点,广泛应用于通讯制品(移动电话)、电脑(笔记本)、便携式电子产品、消费电子、网络硬件(服务器等)、医疗仪器、家用电子产品和航空航天及国防等电子设备的EMI屏蔽。 n?6^j8i
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适用于各种塑胶制品的金属屏蔽(PC、PC+ABS、ABS等)。 DsxNg
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. }+ z! C9 y- @5 e9 P9 C% h9 QEMI溅射镀膜的特点 Z;+;_Cw
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真空技术是结合机械、电机、材料、化工和航太等技术发展出来的产业,亦是目前我国与美、日等国极力推动之十大新兴产业之一。真空技术应用范围日趋广泛,运用对象包括光电、半导体和LCD产业等,近年来尤其在光电、IC和LCD等产业之制造设备,更是成长迅速。 r&v!2A]:
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EMI溅射镀膜具有以下特点: 46l*ui_
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. _4 s6 w% p* @6 S9 Z价格低(国内拥有自主知识产权的话)。 %>zG;4
5 ~( e2 {3 \1 p! J3 l# c. t/ }真空溅射加工的金属薄膜厚度只有0.5~2μm,绝对不影响装配。 nip*Y@-F " q, ?) Z; G: f) h
真空溅射是彻底的环保制程,绝对环保无污染。 _E0yzkS + n6 @3 C9 L0 u6 R
欲溅射材料无限制, 任何常温固态导电金属及有机材料、绝缘材料皆可使用(例:铜、铬、银、金、不锈钢、铝、氧化矽SiO2等)。 =*-a c 8 c$ W' Z: d- O* k2 W" b
被溅射基材几无限制(ABS、PC、PP、PS、玻璃、陶瓷、epoxy resin等)。 6 AY~>p % {/ g2 o2 ~* N5 W" z4 }& e L
膜质致密均匀、膜厚容易控制。 [<^'}-SJ
2 A$ o; W( j& k& D9 Q N附著力强(ASTM3599方法测试4B)。 e&(Wn2)o
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可同时搭配多种不同溅射材料之多层膜。并且,可随客户指定变换镀层次序. ~S :8M<aB |