什么是EMI A405igF
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: h/ E7 S6 y4 k$ ] 电磁兼容性（Electromagnetic Compatibility）缩写EMC，就是指某电子设备既不干扰其它设备，同时也不受其它设备的影响。电磁兼容性和我们所熟悉的安全性一样，是产品质量最重要的指标之一。安全性涉及人身和财产，而电磁兼容性则涉及人身和环境保护。 aKW-(5<JW , k/ z4 ~; F; i% }* c
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. v L. A$ G+ X1 B 电磁波会与电子元件作用，产生干扰现象，称为EMI（Electromagnetic Interference）。例如，TV荧光屏上常见的“雪花”便表示接受到的讯号被干扰。 1l)j(,Zd*
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EMI溅射镀膜的原理 j< h1s% 5 A. \! v5 c1 H/ @
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原理说明： *"_W1}^
2 i' q1 d3 h. ]( L2 L+ J1. 在高度真空状态下，充入适量氩气； _\\IA[-C+O 5 n6 R9 {& e3 w0 |7 a- v
2. 施以高压直流电，将氩气电离成氩离子，加速撞击金属靶材，溅射出金属离子； E83$(6z 9 P# {3 ]6 \! q
3. 金属离子在电场中加速溅射在基材（塑壳）上，形成金属离子薄膜。 ~eP~c"L ) s' v9 @/ q7 p6 O0 ~
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7 U) G* X$ A* R; p- w7 s6 W8 G- b真空溅镀EMI的应用范围 Ux^ue9 * Z4 ^. h3 ^( x. @$ A
真空溅镀EMI具有高导电性和高电磁屏蔽效率等特点，广泛应用于通讯制品(移动电话)、电脑(笔记本)、便携式电子产品、消费电子、网络硬件(服务器等)、医疗仪器、家用电子产品和航空航天及国防等电子设备的EMI屏蔽。 n?6^j8i : |/ M1 w; s7 S3 A
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7 { q/ ~) A' I 适用于各种塑胶制品的金属屏蔽（PC、PC+ABS、ABS等）。 DsxNg 4 Q* _" I' d, ?/ U2 M
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EMI溅射镀膜的特点 Z;+;_Cw . U, N9 i3 X0 ?3 F2 G
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0 V) H3 W1 X! _ e8 D1 S 真空技术是结合机械、电机、材料、化工和航太等技术发展出来的产业，亦是目前我国与美、日等国极力推动之十大新兴产业之一。真空技术应用范围日趋广泛，运用对象包括光电、半导体和LCD产业等，近年来尤其在光电、IC和LCD等产业之制造设备，更是成长迅速。 r&v!2A]:
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EMI溅射镀膜具有以下特点： 46l*ui_ ! u* X% B8 j- a& {) W
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价格低（国内拥有自主知识产权的话）。 %>zG;4 . o" t1 ^2 Y' J$ V, k* I2 c
真空溅射加工的金属薄膜厚度只有0.5～2μm，绝对不影响装配。 nip*Y@-F
: }5 y9 {$ \7 Q真空溅射是彻底的环保制程，绝对环保无污染。 _E0yzkS
. A/ R1 D1 i# b- [" l欲溅射材料无限制, 任何常温固态导电金属及有机材料、绝缘材料皆可使用（例：铜、铬、银、金、不锈钢、铝、氧化矽SiO2等）。 =*-a c
) {( |$ S( g0 S5 ~3 q) M) n" v被溅射基材几无限制（ABS、PC、PP、PS、玻璃、陶瓷、epoxy resin等）。 6 AY~>p # n3 h4 L4 {% ~; d
膜质致密均匀、膜厚容易控制。 [<^'}-SJ
4 ~7 k) Z o4 F5 G附著力强（ASTM3599方法测试4B）。 e&(Wn2)o
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可同时搭配多种不同溅射材料之多层膜。并且，可随客户指定变换镀层次序. ~S :8M<aB |
显身卡
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